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高分辨二次離子質譜儀tof-sims

高分辨二次離子質譜儀tof-sims是非常靈敏的表面分析手段,憑借質譜分析、二維成像分析、深度元素分析等功能,廣泛應用于醫(yī)學、細胞學、地質礦物學、半導體、微電子、物理學、材料化學、納米科學、礦物學、生命科學等領域。

  • 產(chǎn)品型號:SurfaceSeer S-201
  • 廠商性質:生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-08-15
  • 訪  問  量:845
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產(chǎn)品詳情

Kore SurfaceSeer S在飛行時間二次離子質譜儀 (TOF-SIMS) 系列中,是一款高性價比且經(jīng)久耐用的產(chǎn)品。它是研究樣品表面化學成分的理想選擇,適用于研發(fā)和工業(yè)質量控制應用。


高分辨二次離子質譜儀tof-sims是非常靈敏的表面分析手段,它將脈沖一次離子束聚焦到樣品表面,在濺射過程中產(chǎn)生二次離子。分析這些二次離子可提供有關樣品表面的分子、無機和元素種類的信息。其憑借質譜分析、二維成像分析、深度元素分析等功能,廣泛應用于醫(yī)學、細胞學、地質礦物學、半導體、微電子、物理學、材料化學、納米科學、礦物學、生命科學等領域。




Kore SurfaceSeer S型號的高分辨二次離子質譜儀tof-sims使用的是5keV Cs+離子束(可選惰性氣體Ar+),該離子束是脈沖式的,以限度地減少連續(xù)離子束可能造成的表面損傷。 在每100µs TOF 循環(huán)中,該離子槍的脈沖時間僅為60ns,因此,主光束提供的電流比連續(xù)打開時少1000倍以上。典型的10s實驗時間所產(chǎn)生的電流僅相當于幾毫秒的連續(xù)光束電流。 要達到所謂的“靜態(tài)SIMS"極限,需要在一個點上進行幾分鐘的分析,在這個點上,表面損傷在數(shù)據(jù)中變得清晰可見(取決于焦點和光 束電流)。盡管離子劑量較低,這款TOF分析儀還是非常高效的,這就說明了它具有較高的二次離子數(shù)據(jù)速率(即使在離子產(chǎn)率相對較低 的聚合物上,也通常為5000 c/s)。


TOF-SIMS的高表面靈敏度使其成為解決問題的良好起點,可以對樣品中存在的物質類型進行概述。然后可以使用其他技術來獲取其他信息。TOF-SIMS還可以檢測到比傳統(tǒng)表面分析技術(如XPS和Auger)低得多的物質水平。


SurfaceSeer S 儀器特點:

  • 配備5keV Ar+/Cs+脈沖式離子束,以限度地減少連續(xù)離子束可能造成的表面損傷,實現(xiàn)樣品“無損"分析;

  • 針對工業(yè)領域的低成本TOF-SIMS儀器;

  • 均適用于導電物體表面和絕緣物體表面的分析 ;

  • 可在1~2min內實現(xiàn)高速率的正負質譜分析;

  • 質量分辨率可達 >2,500 m/δm (FWHM);

  • 適用于導電物體表面和絕緣物體表面的分析。


SurfaceSeerS應用領域:

表面化學

黏附力

分層

印刷適性

表面改性

等離子體處理

痕量分析(表面ppm)

催化劑

同位素分析

表面污染






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